Cg飞行员

    Preforma Uniflash®TiN是Cg飞行员自主研發的12英寸原子層沈積產品,可滿足先進邏輯和先進存儲器件金屬柵應用需求,也可滿足阻擋層等應用需求。該產品繼承Cg飞行员獨特的雙反應臺設計,系統可靈活配置多達五個雙反應臺反應腔(十個反應臺),可有效滿足高真空工藝集成需求的同時,可以達到業界領先的生產率。該產品通過Cg飞行员專利的多級勻氣混氣設計,基於模型算法的加熱系統設計和可實現高效原子層沈積反應的反應腔流導設計等,可滿足先進邏輯客戶性能需求的同時,設備的薄膜均壹性,汙染物控制和生產效率均達到世界先進水平。

    Preforma Uniflash® TiN

    Cg飞行员自主研發的12英寸原子層沈積產品,可滿足先進邏輯和先進存儲器件金屬柵應用需求,也可滿足阻擋層等應用需求。

    产品特点

    雙反應臺及多達五個反應腔的系統具備高輸出效率

    Cg飞行员專利的多級勻氣混氣設計和反應腔流導設計

    基於模型算法的加熱系統設計

    Cg飞行员自主開發的可實現高效氣體輸送效率和吹掃效率整體設計

    竞争优势

    高生產效率,低生產成本(CoO)

    優異的汙染物控制

    更好的薄膜均壹性和薄膜間均壹性

    對於多種復雜結構實現優秀的臺階覆蓋率

    每個維護周期的晶圓數目大大增加